2010-04-15 至 2010-04-24
共 2 位
| 系統識別號 | C09901225 |
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| 主題分類 | 科學技術 |
| 施政分類 | 國家發展及科技 |
| 計畫名稱 | 參加53屆國際真空鍍膜研討會並發表論文及參訪相關電漿鍍膜機構 |
| 報告名稱 | 赴美國參加SVC真空鍍膜研討會發表論文 |
| 電子全文檔 | |
| 報告日期 | 2010-05-26 |
| 報告書頁數 | 35 |
| 出國期間 | 2010-04-15 至 2010-04-24 |
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| 前往地區 |
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| 參訪機關 | SVC真空鍍膜研討會訓練課程 |
| 出國類別 | 其他 |
| 關鍵詞 | SVC真空鍍膜研討會,高功率脈衝磁控濺鍍,可撓式鍍膜技術 |
| 計畫主辦機關 | 行政院原子能委員會核能研究所 | |||||||||||||||
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| 出國人員 |
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| 本報告內容為赴美國參加第53屆SVC真空鍍膜國際研討會,此研討會所涵蓋的鍍膜領域相當完整,由傳統的磨潤裝飾性的硬膜,延伸至光電半導體相關材料的鍍膜。本所目前所發的高功率脈衝磁控濺鍍技術已相當成熟,但國內投入相關研究的單位仍寥寥可數,此次藉由參與其中高功率脈衝磁控濺鍍領域之海報論文發表,以及相關課程的安排下,來觀察國外在此技術目前研發現況,並與各界先進能有技術交流,以期未來能將高功率脈衝磁控濺鍍技術應用到更多不同的鍍膜領域,並且提供更優良的技轉服務。另外在半導體光電材料鍍膜相關議題與課程的安排中,有相當多的單位投入透明導電膜製程技術的研究,對於本組目前在可撓式薄膜太陽電池的發展,能夠提供一些最新製程技術做為參考。而廠商參展部分也包含了目前電漿電源及太陽電池製程設備的發展,能提供我們國際上相關產業的發展趨勢。 |
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