2011-05-21 至 2011-05-29
共 1 位
| 系統識別號 | C10003509 |
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| 主題分類 | 科學技術 |
| 施政分類 | 補助專題研究計畫 |
| 計畫名稱 | 第16屆層狀結構與差層材料國際會議 |
| 報告名稱 | 第16屆層狀結構與差層材料國際會議心得 |
| 電子全文檔 | |
| 報告日期 | 2011-07-14 |
| 報告書頁數 | 12 |
| 出國期間 | 2011-05-21 至 2011-05-29 |
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| 前往地區 |
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| 參訪機關 | 本次會議的會議地點位於布拉格市郊區的會議/飯店進行。大會並無安排任何機關單位之參訪行程。 |
| 出國類別 | 其他 |
| 關鍵詞 | 材料,氫氧化物,布拉格,奈米結構,插層 |
| 計畫主辦機關 | 國立中興大學 | ||||||||||
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| 出國人員 |
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| ISIC16為國際上在層狀結構材料與層狀間原子插層方法之重要國際會議；於捷克首都布拉格舉行。與會學者遍佈世界；但主要以歐洲學者、中國大陸學者及來自韓國的學者為主。共有五篇論文來自台灣,而本人實驗室貢獻兩篇論文。會議之議程共發表250篇論文。論文研究主題共分為三大部分,分別是Li電池的Li離子遷入與遷出研究,新的Li電池材料開發；第二主題為目前最熱門的石墨烯薄膜材料；第三個主題與本人此次發表的論文有關,即為層狀雙層氫氧化物的陰離子插層研究與該材料的新製備法。此次會議議程中,感受到中國大陸研究者的積極與努力以及韓國學者在此領域已耕耘20幾年,成果豐碩。 |
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