2001-11-08 至 2001-11-16
共 1 位
| 系統識別號 | C09100252 |
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| 主題分類 | 科學技術 |
| 施政分類 | 國家發展及科技 |
| 計畫名稱 | 赴日考察薄膜鍍製技術及參加國際研討會 |
| 報告名稱 | 赴日考察薄膜鍍製技術及參加國際研討會 |
| 電子全文檔 | |
| 報告日期 | 2002-01-21 |
| 報告書頁數 | 26 |
| 出國期間 | 2001-11-08 至 2001-11-16 |
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| 前往地區 |
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| 參訪機關 | |
| 出國類別 | 考察 |
| 關鍵詞 | 真空儀器,DWDM,TFT-LCD,OLED,真空 |
| 計畫主辦機關 | 行政院國家科學委員會精密儀器發展中心 | ||||||||||
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| 出國人員 |
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| 此次訪察行程共計九天,主要目的為訪察真空鍍膜及設備技術發展現況及參加國際奈米薄膜及元件會議以掌握最新奈米科技發展現況,造訪以製作DWDM鍍膜設備而聞名的Shimadzu/Norkido儀器製造商、以及在真空界已具相當歷史的日本真空(ULVAC)公司以訪查其專業的TFT-LCD和OLED鍍膜技術及所開發的儀器設備,與其研發人員探討相關鍍膜問題及技術合作討論,最後參加了一年一度的奈米級薄膜及元件會議,至今已是第十七屆,今年於AIST的研發中心舉行,此行收穫相當豐碩。精密儀器發展中心致力於真空鍍膜技術已有多年歷史,並且在奈米科技所需技術能量也近趨完備,以此為基礎必可在此範疇一展長才,藉由與國際學者進行研討並加強技術交流。 |
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