2008-10-25 至 2008-10-31
共 1 位
| 系統識別號 | C09703137 |
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| 主題分類 | 教育文化 |
| 施政分類 | 國家發展及科技 |
| 計畫名稱 | 赴日本參加第二十一屆國際微米程序與奈米技術研討會 |
| 報告名稱 | 利用溼式化學法合成同軸生長氧化鋅薄膜及光學特性研究 |
| 電子全文檔 | |
| 報告日期 | 2008-12-09 |
| 報告書頁數 | 7 |
| 出國期間 | 2008-10-25 至 2008-10-31 |
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| 前往地區 |
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| 參訪機關 | 國防大學理工學院 |
| 出國類別 | 其他 |
| 關鍵詞 | 溼式化學法合成,氧化鋅薄膜及光學特性研究 |
| 計畫主辦機關 | 國防部 | ||||||||||
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| 出國人員 |
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| 第二十一屆國際微米程序與奈米技術研討會(21thInternationalMicroprocessesandNanotechnologyConference),是由日本物理學會主辦,乃年度性之國際學術會議,其會議宗旨在於結合世界各國有關微米程序與奈米技術研究領域之學者專家,就專長領域進行一系列學術研究成果發表及新知討論,該學會歷年來所主辦之學術研究年會、研討會及專題討論會,皆對該學術領域有深遠的影響及貢獻。因此,藉由此學術交流進而瞭解國際未來研究發展方向及趨勢並與參與大會各國專家學者交換研究心得及吸取他人寶貴之研究經驗,將可做為個人日後研究之參考。 |
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