2010-04-24 至 2010-05-02
共 1 位
| 系統識別號 | C09901762 |
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| 主題分類 | 教育文化 |
| 施政分類 | 教育及體育 |
| 計畫名稱 | 出席第21屆電化學學會會議 |
| 報告名稱 | 出席第21屆電化學學會會議 |
| 電子全文檔 | |
| 報告日期 | 2010-06-30 |
| 報告書頁數 | 6 |
| 出國期間 | 2010-04-24 至 2010-05-02 |
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| 前往地區 |
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| 參訪機關 | 無 |
| 出國類別 | 其他 |
| 關鍵詞 | 電化學學會會議,溫哥華,中興大學 |
| 計畫主辦機關 | 國立中興大學 | ||||||||||
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| 出國人員 |
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| 第217屆電化學學會會議於加拿大溫哥華舉行,為電化學與材料界的盛會,會議涵蓋能源、生醫、半導體、電化學及奈米科學等各項主題。本人於4月24日出發,4月25日至4月30日參加六天的會議,本實驗室的研究成果「FormationofNi-SilicideNanowiresonSilicon-on-InsulatorSubstratesbyAtomicForceMicroscopeLithography」於4月27日晚上發表,講述利用原子力顯微鏡微影於SOI基板上製作鎳矽化物奈米線的最新製程,並與從事相關研究的學者交換研究心得,得到許多寶貴的意見,會議中亦吸收目前最新的發展趨勢,對日後的研究進行有很大的助益。會後於5月1日搭機,5月2日回國。 |
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