| 2011年3月06-09日國際先進電漿技術研討會及其氮化物與奈米材料應用(InternationalSymposiumonAdvancedPlasmaScienceanditsApplicationsforNitridesandNanomaterials)為每一年舉辦一次之重要國際會議,ISPlasma2011是由優秀的研究人員來自世界各地聚集在日本名古屋,在研究領域的電漿技術、電漿科學開發並應用於氮化物半導體奈米材料,建立機制並技術轉移給業界廣泛的討論,在世界上是空前的會議。會議召開的公告,討論最新的研究成果,旨在促進形成國際先進的電漿奈米科學中心的東海地區。此外,能源利用技術,環境科學及其應用開發的電漿技術,目的還在於提出解決的問題,如全球變暖和能源資源已成為一個全球性問題。藉由參與此會議可以多加接觸各國學者並與之交流,藉著聽取別人的經驗希望可以促進台灣半導體產業更走入國際市場。對於參加ISPlasma2011國際會議對於我本人幫助良多,能有更多的機會與國際知名學者交流,聽取前輩們的經驗與建議以使自己的知識與研究都能更進步,並期許未來自己能在台灣這塊土地上對於半導體發展有所貢獻。預計於返台後即可開展相關工作。回顧此次出訪日本六天中,雖然行程緊湊,報告、參訪與討論工作繁重,但所達成的目標與成果非常豐碩,對於提升本校國際知名度與國際級研究成果都將有莫大助益。 |