2011-07-04 至 2011-07-08
共 1 位
| 系統識別號 | C10004682 |
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| 主題分類 | 教育文化 |
| 施政分類 | 國家發展及科技 |
| 計畫名稱 | 第11屆國際濺鍍與電漿製程研討會 |
| 報告名稱 | 第11屆國際濺鍍與電漿製程研討會與會心得 |
| 電子全文檔 | |
| 報告日期 | 2011-10-17 |
| 報告書頁數 | 8 |
| 出國期間 | 2011-07-04 至 2011-07-08 |
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| 前往地區 |
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| 參訪機關 | 日本京都研究園區 |
| 出國類別 | 其他 |
| 關鍵詞 | 電漿,化學氣相沉積,微結構。 |
| 計畫主辦機關 | 國立中興大學 | ||||||||||
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| 出國人員 |
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