出國期間

2002-07-17 至 2002-07-26

前往地區

  • 美國

出國人數

共 5 位

基本資料
系統識別號 C09200560
主題分類 科學技術
施政分類 國家發展及科技
計畫名稱 美國舊金山2002年半導體設備及材料展公差出國報告
報告名稱 美國舊金山2002年半導體設備及材料展公差出國報告
電子全文檔
報告日期 2002-10-10
報告書頁數 45
其他資料
出國期間 2002-07-17 至 2002-07-26
前往地區
  1. 美國
參訪機關
出國類別 考察
關鍵詞 集束型自動化控制系統(ClusterTool),電子迴旋共振電漿製程設備(ECR),快速熱處理製程設備(RTP),化學機械研磨機(CMP)
計畫主辦機關資訊
計畫主辦機關 國防部中山科學研究院
出國人員
姓名 服務機關 服務單位 職稱 官職等
許覺良 國防部中山科學研究院 第二研究所 簡聘副所長 其他
戴涪 國防部中山科學研究院 第二研究所 簡聘技監 其他
蘇俊傑 國防部中山科學研究院 第二研究所 簡聘技監 其他
游欽宏 國防部中山科學研究院 第二研究所 簡聘技正 其他
潘文玨 國防部中山科學研究院 第二研究所 簡聘技正 其他
報告內容摘要
本院執行經濟部「機械業關鍵系統」科技專案之半導體前段製程設備研發計畫已著有成效,經濟部本年度特請本院配合其「美國半導體製程技術引進及招商團」參與美國國際半導體設備大展及技術引進交流論壇,藉此提供經濟部所需支援並掌握半導體製程設備及全球市場技術發展趨勢。本次行程主要為參訪半導體設備及材料大展(SEMICONWEST)、出席經濟部工業局主辦之技術引進交流論壇,參加美國矽谷華美半導體協會之亞太地區微電子技術研討會、以及拜會訪問美國半導體製程設備系統大廠及專業零組件廠商。除了瞭解世界各國半導體製程設備及組件最新研發動態及特殊技術之發展外,並針對各分項計劃,蒐集晶圓輸送系統、晶圓平坦化、電漿機台及快速熱處理等項目之相關技術資料及掌握市場現況與技術發展趨勢。在參觀訪問方面,除了全世界半導體製程設備廠商應用材料公司及LCD大廠AKT之訪問外,並與MC-21公司就最新之超高強度鋁合金材料於半導體及國防科技之應用做了深入之探討。本次出國公差參觀訪問在美國舉辦的SEMICONWEST2002半導體設備及材料展。該項展覽參展廠商超過5000家,規模可謂盛況空前,會場內除了展示最新半導體製程設備及材料外,並舉辦相關研討會,介紹最新之製程及設備發展做了非常有價值的報告,對半導體產業未來的發展方向以及趨勢等進行了完整的分析報告。因此,對本單位執行半導體製程設備開發,具有極大積極有效之作用。
前往原始報告頁面:http://report.nat.gov.tw/ReportFront/report_detail.jspx?sysId=C09200560
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