2003-10-28 至 2003-11-07
共 1 位
| 系統識別號 | C09204089 |
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| 主題分類 | 公共工程 |
| 施政分類 | 工程管理 |
| 計畫名稱 | 赴美國考察真空儀器設備暨參加美國真空年會出國報告 |
| 報告名稱 | 赴美國考察真空儀器設備暨參加美國真空年會出國報告 |
| 電子全文檔 | |
| 報告日期 | 2004-01-12 |
| 報告書頁數 | 42 |
| 出國期間 | 2003-10-28 至 2003-11-07 |
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| 前往地區 |
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| 參訪機關 | |
| 出國類別 | 考察 |
| 關鍵詞 | 真空設備,鍍膜系統,美國真空年會 |
| 計畫主辦機關 | 行政院國家科學委員會精密儀器發展中心 | ||||||||||
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| 出國人員 |
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| 為掌握國際上真空設備及鍍膜系統發展現況,以及收集最新鍍膜系統資訊,筆者奉派前往美國東岸紐澤西州參訪丹頓真空有限公司(DentonVacuumLLC)、賓州SHI-APDCryogenics公司以及參加在馬里蘭州之巴爾的摩所舉行的第50屆美國真空學會年會。藉著參觀訪問以及參加真空相關之研討會,廣泛蒐集國際上真空、鍍膜、微機電系統、奈米材料、奈米檢測、生醫檢測領域之最新訊息,瞭解先進國家在此方面之發展趨勢。於研討會附帶舉辦之真空儀器展覽會中亦蒐集參展之相關真空元件及系統儀器資料,以求迅速掌握國際真空相關領域儀器之發展現況及各製造廠商之研發趨勢,以作為本中心未來策略規劃及技術發展方向之參考。 |
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