出國期間

2004-08-22 至 2004-08-26

前往地區

  • 日本

出國人數

共 1 位

基本資料
系統識別號 C09401116
主題分類 文化藝術
施政分類 文化傳播
計畫名稱 赴東京文化財研所考察
報告名稱 赴東京文化財研所考察
電子全文檔
報告日期 2004-08-30
報告書頁數 15
其他資料
出國期間 2004-08-22 至 2004-08-26
前往地區
  1. 日本
參訪機關
出國類別 考察
關鍵詞 東京文化財研究所高精細彩色數位照相可見光域內的螢光數位照相紅外線數位照相螢光X線分析裝置分光光度計裝置
計畫主辦機關資訊
計畫主辦機關 國立故宮博物院
出國人員
姓名 服務機關 服務單位 職稱 官職等
何傳馨 國立故宮博物院 書畫處 副研究員兼科長 簡任
報告內容摘要
本次考察計參觀東京文化財研究所情報調整室、保存科學部化學研究室兩個單位。考察項目包括「高精細彩色數位照相」、「可見光域內的螢光數位照相」、「紅外線數位照相」、「螢光X線分析裝置」、「分光光度計裝置」五項。這些不同的數位與非數位的科技檢測,均為未來數位博物館甚至其他科學檢測計畫,提供了可供參考、借鏡的寶貴經驗。
前往原始報告頁面:http://report.nat.gov.tw/ReportFront/report_detail.jspx?sysId=C09401116
2013 © 公務員出國考察追蹤網 || 本來源以 公務出國報告資訊網 頒佈為準,資料僅供參考,若有不正確之處請來信(abroadplay@groups.facebook.com)與我們反應。