2005-10-24 至 2005-10-29
共 1 位
系統識別號 | C09404427 |
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主題分類 | 行政管理 |
施政分類 | 研究發展 |
計畫名稱 | 赴美參加美國物理學會年會 |
報告名稱 | 赴美參加美國物理學會年會 |
電子全文檔 | |
報告日期 | 2005-12-16 |
報告書頁數 | 5 |
出國期間 | 2005-10-24 至 2005-10-29 |
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前往地區 |
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參訪機關 | 美科羅拉多丹佛市,美國物理學會(AmericanPhysicanSociety) |
出國類別 | 其他 |
關鍵詞 | 赴美參加美國物理學會年會 |
計畫主辦機關 | 行政院國家科學委員會 | ||||||||||
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出國人員 |
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於十月二十四日赴美科羅拉多丹佛市參加美國物理學會電漿物理分會所主辦第四十七屆年度電漿物理大會,本會議為全球最重要的電漿領域年度會議之一,有全球近千電漿物理學者參加,會議的主題涵蓋基礎電漿物理、太空與天文電漿、雷射─電漿作用、雷射材料作用、熱核融合電漿、電漿粒子加速、微粒電漿等‧其中熱核融合電漿與雷射相關電漿為最重要的議題‧多年來爭議不斷的下一世代國際共用熱核融合系統因已達成共識將由美、日、歐盟、韓、中等多國出資共建,期望解決未來能源問題,諸多重要議題於會中廣為討論‧另一方面超高能量脈衝雷射的發展,可直接用於加熱電漿,展現豐富的動力行為,此系統並有廣泛的基礎與應用價值,其發展值得吾人注意‧ |
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